W centrum wiadomości z chińskiego rynku półprzewodników stoi Shanghai Yuliangsheng Technology Co., start-up, który śmiało mierzy w to, co dotąd wydawało się nieosiągalne: stworzenie w pełni chińskiej maszyny litograficznej do produkcji chipów, zdolnej rywalizować z zachodnimi rozwiązaniami od ASML.
Maszyna o kodowej nazwie „Mount Everest” nieprzypadkowo nosi imię najwyższego szczytu świata. To projekt symboliczny. To on ma dowieść, że Chiny potrafią wspiąć się tam, gdzie dotąd dominowali Holendrzy i Amerykanie. Czy tak się stanie? Wiele na to wskazuje.
SMIC testuje własną litografię
Największy chiński producent półprzewodników, SMIC, rozpoczął testy jednej z pierwszych rodzimych maszyn DUV (deep ultraviolet) z tzw. technologią immersyjną. Urządzenie, opracowane przez wspomniane Yuliangsheng. Czyli spółkę powiązaną kapitałowo z Huawei SiCarrier ma potencjał do pracy na poziomie 28 nanometrów, z możliwością zejścia nawet do 7 nm przy wykorzystaniu tzw. wielokrotnego patterningu.
Na papierze brzmi to imponująco. W praktyce jednak eksperci studzą entuzjazm – osiągnięcie takiej precyzji wymaga lat dopracowywania procesu. Realnie, nawet jeśli produkcja 28 nm ruszy w 2027 roku, zejście poniżej 10 nm może potrwać do końca dekady.
Co ważne, znaczna część komponentów maszyny pochodzi już z Chin, choć kilka kluczowych elementów nadal jest importowanych. Pekin stawia sobie jasny cel: pełne „zdomowienie” łańcucha dostaw. Gdy to się uda, Państwo Środka uniezależni się od europejskich i amerykańskich licencji, które od lat blokują mu dostęp do najbardziej zaawansowanych technologii litograficznych.
Chińska odpowiedź na ASML
W branży mówi się, że urządzenie Yuliangsheng przypomina starszy model ASML Twinscan NXT:1950i z 2008 roku – sprzęt, który w swoim czasie był przełomowy, ale dziś stanowi raczej średnią półkę. Oznacza to, że chińska litografia dopiero dogania poziom sprzed kilkunastu lat, choć z ambicjami sięgającymi znacznie dalej.
Holenderska ASML od lat utrzymuje monopol w dziedzinie EUV (Extreme Ultraviolet) – technologii niezbędnej do wytwarzania najbardziej zaawansowanych układów 3 nm i poniżej. Chiny, odcięte od tej technologii przez sankcje USA, skupiły się na rozwoju DUV, próbując wycisnąć z niej maksimum możliwości. Nie jest to niemożliwe – ale wymaga ogromnych nakładów i inżynieryjnej kreatywności.
Polityka i technologia idą ramię w ramię
Na dłuższą metę projekt Yuliangsheng to coś więcej niż walka o nanometry. Mamy geopolityczny manifest i sygnał, że Chiny nie zamierzają kapitulować wobec zachodnich restrykcji. Dla Pekinu półprzewodniki stały się tym, czym dla Związku Radzieckiego był program kosmiczny – symbolem suwerenności technologicznej.
Nieprzypadkowo Yuliangsheng znalazł się na czarnej liście Departamentu Handlu USA pod koniec 2024 roku. Waszyngton już wie, że to właśnie takie firmy mogą być kluczem do złamania amerykańskiej przewagi w globalnym łańcuchu dostaw chipów.
Czy Chiny naprawdę dogonią Zachód? Być może nie w tym dziesięcioleciu. Ale warto pamiętać, że jeszcze piętnaście lat temu mało kto traktował poważnie ambicje Chin w sektorze lotniczym czy kosmicznym. Dziś Pekin ma własną stację orbitalną, lotniskowiec czy samolot pasażerski konkurujący z Airbusem.
Projekt „Mount Everest” może więc okazać się punktem zwrotnym – momentem, w którym świat po raz pierwszy zobaczy, że technologiczna autarkia Chin to nie tylko propaganda, lecz realny plan, krok po kroku wcielany w życie. Pekin zdaje się mieć coś, czego Zachodowi coraz częściej brakuje: niezachwianą determinację do wejścia na szczyt.